二硅化钽Tantalum Disilicide

编号系统

CAS号：12039-79-1

MDL号：MFCD00049564

EINECS号：234-902-2

RTECS号：暂无

BRN号：暂无

PubChem号：暂无

物性数据

1. 性状：为暗灰色立方结晶粉末

2. 密度（g/mL,25℃）：9.14

3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定

4. 熔点（ºC）：2200

5. 沸点（ºC,常压）：未确定

6. 沸点（ºC，1mmHg）：未确定

7. 折射率：未确定

8. 闪点（ºC）：未确定

9. 比旋光度（º）：未确定

10. 自燃点或引燃温度（ºC）：未确定

11. 蒸气压（20ºC）：未确定

12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定

13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定

14. 临界温度（ºC）：未确定

15. 临界压力（KPa）：未确定

16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定

17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定

18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定

19. 溶解性：未确定

20.晶格常数：a=0.4778nm，c=0.6558nm

21.显微硬度（kg·mm-2）：1407

22.弹性模量（kg·K-1）：30230

23.导电率（Ω·cm-1）：1.23×10-5

24.比热容（J/(g·℃)）：0.33

毒理学数据

暂无

生态学数据

暂无

分子结构数据

暂无

计算化学数据

1、 氢键供体数量：0

2、 氢键受体数量：0

3、 可旋转化学键数量：0

4、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：0

5、 重原子数量：3

6、 表面电荷：0

7、 复杂度：18.3

8、 同位素原子数量：0

9、 确定原子立构中心数量： 0

10、 不确定原子立构中心数量：0

11、 确定化学键立构中心数量：0

12、 不确定化学键立构中心数量：0

13、 共价键单元数量：1

性质与稳定性

暂无

贮存方法

暂无

合成方法

1.以金属钽和硅粉为原料，将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至800℃进行反应，即得硅化钽。或者用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。

2.将Si和Ta混合物先预热至350℃，然后升温至1480℃，加热反应。或令TaS2与SiHnX4-n在900℃下反应制得。

3.直接法　以金属钽和硅粉为原料制备硅化钽，反应式如下。
首先将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至
1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1800.℃进行均化反应1h，即得硅化钽。

4.五氧化二钽还原法　首先用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。

用途

用作精细陶瓷原料粉。

用于陶瓷工业以及电接触器和半导体设备。

安全信息

危险运输编码：暂无

危险品标志：暂无

安全标识：暂无

危险标识：暂无

文献

暂无

备注

暂无

表征图谱